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光刻膠處理中的四大烘烤工藝之——HMDS烤箱預(yù)烘烤

更新時(shí)間:2025-05-28   點(diǎn)擊次數(shù):67次
  光刻膠處理中的四大烘烤工藝——基板預(yù)烘烤、軟烘、曝光后烘烤與硬烘
 
  涂膠前的烘烤
 
  構(gòu)建牢靠的膠基結(jié)合
 
  基板表面處理是光刻膠附著的首要環(huán)節(jié)。當(dāng)溫度升至100°C時(shí),基材表面吸附的水分子(H?O)開始脫附,這一過程能有效消除“水膜屏障”,避免光刻膠與基板間因水分殘留導(dǎo)致的結(jié)合力下降。硅、玻璃、石英等氧化表面的羥基(-OH)會(huì)導(dǎo)致親水性表面,降低光刻膠附著力,而溫度進(jìn)一步升至150°C以上時(shí),羥基(-OH)會(huì)發(fā)生熱裂解反應(yīng),從而進(jìn)一步提升光刻膠與基板的結(jié)合力。
 
 ?、?低溫段推薦120°C烘烤3-5分鐘,高溫段需避免過久導(dǎo)致基板氧化加劇。
 
  ②使用上海雋思HMDS烤箱HMDS增粘劑預(yù)處理可達(dá)到類似高溫烘烤的效果。
 
 ?、?涂膠應(yīng)在基板冷卻后立即進(jìn)行以防止水分再吸附,但需確?;寤謴?fù)室溫以保證膠膜均勻性。
 
  HMDS烤箱預(yù)烘烤工藝
 
  HMDS烤箱將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、碳化硅/硫化鋅/磷化銦/生物晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫氣相沉積在襯底表面。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)樗?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
 
  可以很好地改善光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕等煩惱。
 
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