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前烘潔凈烘箱,軟烘充氮烘箱 真空干燥烘箱
前烘潔凈烘箱,軟烘充氮烘箱 真空干燥烘箱

前烘潔凈烘箱,軟烘充氮烘箱涂膠后,晶片須經(jīng)過(guò)一次烘烤,稱(chēng)之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常,軟烘時(shí)間越短或溫度越低會(huì)使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高。

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晶圓潔凈烘箱,光刻硬烘烤箱
晶圓潔凈烘箱,光刻硬烘烤箱

晶圓潔凈烘箱,光刻硬烘烤箱潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理HEPA過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。Z小限度控制風(fēng)速距離。

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無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱
無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱

無(wú)氧烘箱、防氧化烤箱無(wú)氧烘箱,在工作時(shí),工作室內(nèi)充滿(mǎn)了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板。

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無(wú)氧烤箱,厭氧烘箱
無(wú)氧烤箱,厭氧烘箱

無(wú)氧烤箱,厭氧烘箱廣泛用于航天、石油、化工、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位做材料、零件、設(shè)備等的高溫潔凈和無(wú)氧干燥及老化試驗(yàn)。

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無(wú)塵潔凈烤箱,精密潔凈烘箱
無(wú)塵潔凈烤箱,精密潔凈烘箱

無(wú)塵潔凈烤箱,精密潔凈烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)

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光刻膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體高溫烤箱
光刻膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體高溫烤箱

光刻膠高溫固化烤箱,半導(dǎo)體高溫烤箱適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè)。應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求,箱內(nèi)空氣封閉自循環(huán),經(jīng)耐高溫高效空氣過(guò)濾器(100級(jí))反復(fù)過(guò)濾,使烘箱工作室內(nèi)處于無(wú)塵狀態(tài)。無(wú)塵烤箱工作室為不銹鋼結(jié)構(gòu)。

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HMDS真空烤箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)
HMDS真空烤箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

HMDS真空烤箱,全自動(dòng)HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烤箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

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