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硅烷沉積系統(tǒng) 氣相沉積設(shè)備 硅烷涂膠機(jī)是一種用于硅烷（Siih?）作為前驅(qū)體的薄膜沉積設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、納米壓印脫模工藝、光伏（太陽能電池）、顯示面板、玻璃、陶瓷納米材料等領(lǐng)域的材料制備。硅烷（SiH?）因其高反應(yīng)性和低溫沉積特性，成為沉積非晶硅（a-Si）、微晶硅（μc-Si）、氮化硅（SiN?）和氧化硅（SiO?）等薄膜的關(guān)鍵化學(xué)品。

智能型無塵無氧烘箱 高溫氮?dú)鉄o氧PI烤箱 電子膠體固化：銀膠/BCB膠/光刻膠高溫固化（300-450℃） 晶圓加工：退火處理、PI膜烘烤（±1℃波動(dòng)精度） 陶瓷燒結(jié)：電子陶瓷材料無塵烘干（Class100潔凈環(huán)境）

真空存儲(chǔ)箱 真空保存箱 桌上真空儲(chǔ)存柜用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體， 電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級(jí)金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等）及機(jī)金屬加工件與各類不便于冷藏的食品，還有書籍、衣物等厭氧 物品的真空存貯，以防潮、防氧化變色。

MSD烘箱 高溫超低濕烘箱 濕敏烤箱 烘焙容易產(chǎn)生老化，以及烘焙受潮超過 0.1wt%的元件產(chǎn)生損 害等原因，推薦使用 40°C + 5%RH 或是 90°C + 5%RH 條件烘焙。

超低濕烘箱 高溫低濕烤箱 濕敏原件烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的專用烘烤設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)： 40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh 125℃~150℃/±5%Rh 烘烤及高溫試驗(yàn)

精密熱板 光刻膠烤膠臺(tái) 堅(jiān)膜烘膠臺(tái)光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤，因?yàn)檫@次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡(jiǎn)稱后烘或堅(jiān)膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。

真空保存箱 真空儲(chǔ)存柜 真空防潮柜適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所，適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產(chǎn)品（半導(dǎo)體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、高級(jí)金屬制品、厭氧產(chǎn)品、易氧化產(chǎn)品等）